Веко и имек создали 300-мм совместимый метод интеграции бария титаната в кремниевую фотонику, повышая эффективность работы центров данных и телекоммуникаций. Veeco and imec created a 300mm-compatible method to integrate barium titanate into silicon photonics, boosting performance for data centers and telecom.

Веко и имек разработали 300-мм совместимый процесс интеграции бария титаната в кремниевую фотонику, расширяя возможности для высокоэффективных, масштабируемых фотоникных устройств, используемых в центрах данных и телекоммуникациях. Veeco and imec have developed a 300mm-compatible process to integrate barium titanate onto silicon photonics, advancing the potential for high-performance, scalable photonic devices used in data centers and telecommunications. Этот прорыв позволяет произвести точное осаждение барийных титанатных пленок, повысить оптическую модуляцию и эффективность устройств. The breakthrough enables precise deposition of barium titanate films, enhancing optical modulation and device efficiency. Этот процесс предназначен для обеспечения совместимости с существующей инфраструктурой полупроводникового производства, что открывает возможности для более широкого внедрения оптических технологий следующего поколения. The process is designed for compatibility with existing semiconductor manufacturing infrastructure, paving the way for wider adoption in next-generation optical technologies.