Китайская SMIC тестирует отечественную глубокую УФ-литографию для 7 нм чипов, чтобы сократить зависимость от американских и голландских технологий. China's SMIC tests homegrown deep UV lithography machine for 7nm chips, aiming to cut reliance on U.S. and Dutch tech.

Китайская компания SMIC тестирует свою первую отечественную глубокую ультрафиолетовую литографическую машину, разработанную стартапом из Шанхая Yuliangsheng, что свидетельствует о прогрессе в направлении самостоятельности производства полупроводников. China's SMIC is testing its first domestically built deep ultraviolet lithography machine, developed by Shanghai startup Yuliangsheng, marking progress toward self-reliance in semiconductor manufacturing. Эта машина предназначена для поддержки производства 7-мм и потенциально мощностью до 5-нм, хотя показатели урожайности остаются низкими из-за проблем с согласованием. The machine aims to support 7nm production and potentially scale to 5nm, though yield rates remain low due to alignment challenges. Эти усилия, стимулируемые ростом внутреннего спроса со стороны фирм ИИ и правительственным давлением на внутренние технологии, направлены на сокращение зависимости от иностранного оборудования, особенно от АСМЛ, в условиях существующих в США экспортных ограничений. This effort, driven by rising domestic demand from AI firms and government push for in-house tech, seeks to reduce dependence on foreign equipment, particularly from ASML, amid ongoing U.S. export restrictions.