ULVAC и SAL сотрудничают в разработке плазменного гравирования для крупномасштабного производства тонкопленочного ниобата лития. ULVAC and SAL partner to develop plasma etching for large-scale thin-film lithium niobate manufacturing.

ULVAC и Cilicon Austria Labs (SAL) объединили свои усилия для разработки процессов травления плазмы для производства тонких литиевых ниобатов (TFLN) в больших масштабах. ULVAC and Silicon Austria Labs (SAL) have teamed up to develop plasma etching processes for manufacturing thin-film lithium niobate (TFLN) on a large scale. Этот материал имеет решающее значение для усовершенствованных оптических устройств в силу его высокой эффективности и низкой потери. This material is crucial for advanced optical devices due to its high efficiency and low loss. Используя систему удлинения плазмы ULVAC, партнерство стремится улучшить интеграцию и масштабируемость TFLN, решая растущий спрос на более высокие объемы передачи данных. Using ULVAC's plasma etching system, the partnership aims to improve TFLN's integration and scalability, addressing the increasing demand for higher data communication volumes.